obiettivo planar di tantalio obiettivi 99.99%

I dettagli del prodotto

Nome di prodotto:tantalio sputtering target

Esecuzione standard: B708-98

Specifiche: diametro del bersaglio circolare (25-400) mm (3-28) mm * spessore

Quadrato di specifiche di destinazione: spessore (1-12,7) di mm * (10-600) mm * lunghezza larghezza (200-2000) mm

Tolleranza: la tolleranza sul diametro di + / - 0.254

Marca: RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2.5 w), RO5255 (Ta-10W)

Purezza: 99.9%

Ricristallizzazione: almeno 95%

Formato di grano: minimo 40 m

Rugosità superficiale: Ra 0,8 massimo

Planarità: o 0,1 mm 0,10% massimo.

Obiettivi di piastre di tantalio

Composizione chimica

Gr

Main

altri Max %

Ta

NB

Fe

Si

NI

W

Mo

Ti

NB

O

C

H

N

TA1

ricordare

——

0.005

0.005

0.002

0.01

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

TA2

ricordare

——

0.03

0.02

0.005

0.04

0.03

0.005

0.1

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb3

ricordare

<3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb20

ricordare

17.0~23.0

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TA2.5W

ricordare


0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta10W

ricordare


0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01




Inchiesta
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